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三靶聚焦共濺射鍍膜系統,可以滿足多組份或多層金屬和化合物濺射鍍膜,樣品臺同時具備公轉和自傳功能,樣品臺直徑200mm樣品,鍍膜有小區直徑180mm,薄膜厚度均勻性達到5%,靶材利用率達到30%以上。強磁場設計,可以滿足鐵磁材料濺射。濺射陰極主體采用聚四氟乙烯設計,優化水冷設計,可以滿足大功率密度濺射,成膜速率提高30%以上。
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